高纯炭/炭热场材料

本所研制的用于多晶硅氢化炉及单晶硅晶体生长炉的隔热屏、加热器、坩埚、导流筒等高纯炭/炭热场材料，具有强度高、使用寿命长、纯度高，灰分可达到25ppm以下，金属杂质含量可达到5ppm以下，且无高温挥发物等突出优点。